对应逻辑、、、存储器、、、图像传感器等各类器件的渺小图案制作

ArF扫描式光刻机「NSR-S333F」

贝斯特官网株式会社（Nikon）将在实现业内最高水平^※１重合精度的同时，阐扬逾越产效能，于2025年10月起头接受ArF（氟化氩）扫描式光刻机“NSR-S333F”的订单。。
。该产品结合了最高端机型ArF液浸式光刻机的平台与已经过验证的传统机型ArF扫描式光刻机“NSR-S322F”的光学系统，实现了出产效能提升与高精度套刻的两全。。
。可能满足逻辑芯片、、、存储器、、、图像传感器等多种器件的渺小图案制作需要。。
。

^※１　 截至2025年9月25日，贝斯特官网凭据已颁布的ArF扫描式光刻机中进行的调查。。
。

发售概况

商品名	ArF扫描式光刻机「NSR-S333F」
发售功夫	2025年10月
上市予定	2026下半年

开颁布景

随着对IoT和AI需要的不休增长，人们对半导体器件渺小化和高机能化的要求也在持续提升。。
。尤其是在逻辑、、、存储器、、、图像传感器等半导体器件的制作领域，对ArF扫描式光刻机的逾越产效能和高重合精度的需要日益加强。。
。

重要特点

１．通过改进平台，使出产效能显著提升

选取了贝斯特官网最高端机型ArF液浸式光刻机的平台，通过提升晶圆台和光罩台的运行速度，实现了每小时300片以上^※2的处置能力。。
。

此外，进一步提升设备运行的不变性，使出产效能相比以往“NSR-S322F”提升了约1.5倍^※3。。
。在对重合精度要求极高的半导体制作工艺中，该设备在维持高重合精度的同时，展示了卓越的出产效能。。
。

^※2　以300 mm晶圆、、、96 shots为例

^※3　凭据使用前提等可能有所改观

２．实现了业界最高水平的重合精度

沿用了在以往机型ArF扫描式光刻机“NSR-S322F”中已经过验证的光学系统。。
。通过选取ArF液浸式光刻机的平台，提高了晶圆对准丈量、、、光罩台丈量、、、自动对焦等机能，在ArF扫描式光刻机中实现了业界最高水平的重合精度——MMO^※4 4nm以下。。
。

^※4　Mix and Match Overlay。。
。统一机型之间的重合精度（例 NSR-S333F#1 to NSR-S333F#2）

重要机能

分辨率	≦ 65 nm
NA	0.92
曝光光源	ArF excimer laser (193 nm wavelength)
缩小倍率	1 : 4
最大曝光领域	26 mm x 33 mm
重合精度	MMO : ≦ 4 nm
产出	≧ 300 wafers / hour (96 shots)