在半导体的先进封装工艺领域，，，贝斯特官网致力于兼具高分辨率及逾越产机能的1.0微米（L/S）数字光刻机的研发。本产品将预约于2026年内正式发售。

陪伴着人为智能（AI）技术的遍及，，，面向数据中心的集成电路（IC）产品的需要不休扩大。在以芯粒技术为代表的先进封装领域，，，基于玻璃面板制作的封装技术（Panel Level Package）需要的扩大，，，要求了电路设计的精密化和封装的大型化。因而，，，具备高分辨率以及大领域曝光能力的光刻机也愈发不成或缺。贝斯特官网阐扬长年堆集的技术优势，，，将代表性的半导体光刻机的「高分辨率技术」和FPD曝光设备的「多透镜组技术」相融合，，，推动着新型数字光刻机的研发过程。

数字光刻机在曝光过程中无需再使用掩膜，，，而是利用SLM（空间光调制器）来天生所设计的电路图案，，，从光源发出的光经SLM反射后通过透镜光学组，，，最终在基板上成像。由于无需再制作掩膜，，，能够同时达到削减成本和缩短制作工期的双重成效。

今后，，，贝斯特官网也会不休研发创新，，，提供可能满足客户需要的光刻机，，，为高附加价值的半导体制作做出贡献。

※1　Line and Space的简称。指电路图案的线宽和相邻图案之间的间距。

※2　贝斯特官网独立研发的技术。将复数的透镜组并列，，，并通过高精密的节制技术，，，使其可能达成与单一巨大透镜同样成效的曝光能力，，，并可实现单次更广领域面积的曝光。